NEMST-HPE2018 系列

微波電漿蝕刻機

微波電漿蝕刻機

微波電漿蝕刻機

高效能微波電漿產生源設計: 10¹¹~101³cm³。
特殊散氣盤設計，確保電漿均勻產生。
利用過濾式電漿設計，對於基板/產品無損傷。
獨特的電子迴旋共振設計，可產生高密度的電漿，並延長石英隔絕板之使用壽命。
可大面積地處理基板。

高蝕刻速度，通常可達每分鐘1~10微米之蝕刻速度。
電漿處理均勻性高，可高達90%以上。
可低溫處理，溫度控制於120℃以內。
不會對於產品造成損傷。
可大面積進行電漿處理，例如處理500 mm x 600 mm之基板

<li>高蝕刻速度，通常可達每分鐘1~10微米之蝕刻速度。</li>
<li>電漿處理均勻性高，可高達90%以上。</li>
<li>可低溫處理，溫度控制於120℃以內。</li>
<li>不會對於產品造成損傷。</li>
<li>可大面積進行電漿處理，例如處理500 mm x 600 mm之基板</li>